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      • MD20-5P定制低溫恒溫循環(huán)槽
        MD20-5P定制低溫恒溫循環(huán)槽

        定制低溫恒溫循環(huán)槽MD20-5P,容積5L,控溫范圍-5℃~100℃,高達(dá)至溫度100℃,作為直接加熱、制冷、輔助加熱、輔助制冷的熱源或冷源,用于低溫測(cè)量和檢定,樣品保存等浸入式或外循環(huán)使用

        更新時(shí)間:2022-06-22型號(hào):MD20-5P
      • MD20系列低溫恒溫反應(yīng)槽(-20℃~90℃)
        MD20系列低溫恒溫反應(yīng)槽(-20℃~90℃)

        低溫恒溫反應(yīng)槽(-20℃~90℃)可直接加熱、制冷、輔助加熱、輔助制冷的熱源或冷源,用于石油化工、制藥等化學(xué)反應(yīng)工藝過(guò)程控制,半導(dǎo)體擴(kuò)散爐擴(kuò)散工藝控制,低溫測(cè)量和檢定,樣品保存等浸入式或外循環(huán)應(yīng)用

        更新時(shí)間:2022-06-15型號(hào):MD20系列
      • MD40系列低溫恒溫槽
        MD40系列低溫恒溫槽

        低溫恒溫槽MD40系列.溫波動(dòng)度達(dá)到±0.05℃,提供熱冷受控,溫度均勻恒定的場(chǎng)源,也可作為直接加熱、制冷、輔助加熱、輔助制冷的熱源或冷源

        更新時(shí)間:2022-06-22型號(hào):MD40系列
      • MD5-4低溫恒溫水槽
        MD5-4低溫恒溫水槽

        低溫恒溫水槽MD5-4,容積4.5L,控溫范圍-5℃~90℃,溫度波動(dòng)度0.05℃,提供熱冷受控,溫度均勻恒定的場(chǎng)源,用于石油化工、制藥等化學(xué)反應(yīng)工藝過(guò)程控制,半導(dǎo)體擴(kuò)散爐擴(kuò)散工藝控制,低溫測(cè)量和檢定,樣品保存等浸入式或外循環(huán)應(yīng)用

        更新時(shí)間:2021-05-11型號(hào):MD5-4
      • MD20系列低溫恒溫水槽(-20℃~100℃)
        MD20系列低溫恒溫水槽(-20℃~100℃)

        低溫恒溫水槽(-20℃~100℃)MD20系列,恒溫波動(dòng)度達(dá)到±0.05℃,提供熱冷受控,溫度均勻恒定的場(chǎng)源,也可作為直接加熱、制冷、輔助加熱、輔助制冷的熱源或冷源

        更新時(shí)間:2022-06-22型號(hào):MD20系列
      • MD90系列超低溫恒溫裝置(-90℃~100℃)
        MD90系列超低溫恒溫裝置(-90℃~100℃)

        超低溫恒溫裝置(-90℃~100℃)采用復(fù)疊式壓縮制冷,噪音低,制冷效率高,可以提供熱冷受控,溫度均勻恒定的液體環(huán)境,也可作為直接加熱、制冷、輔助加熱、輔助制冷的熱源或冷源,恒溫波動(dòng)度達(dá)到±0.1℃

        更新時(shí)間:2022-06-22型號(hào):MD90系列
      • MD30系列加熱制冷浴槽(-30℃~90℃)
        MD30系列加熱制冷浴槽(-30℃~90℃)

        加熱制冷浴槽(-30℃~90℃)主要有壓縮機(jī)、冷凝器、節(jié)流閥、換熱器、循環(huán)泵、加熱器等幾大件組成,用于-30℃石油化工、制藥等化學(xué)反應(yīng)工藝過(guò)程控制,半導(dǎo)體擴(kuò)散爐擴(kuò)散工藝控制,低溫測(cè)量和檢定,樣品保存等浸入式或外循環(huán)應(yīng)用

        更新時(shí)間:2019-04-18型號(hào):MD30系列
      • MD30-100大容量加熱制冷浴槽
        MD30-100大容量加熱制冷浴槽

        大容量加熱制冷浴槽MD30-100,容積100L,控溫范圍:-30℃~90℃(高至溫度100℃),可作為直接加熱、制冷、輔助加熱、輔助制冷的熱源或冷源,用于-30℃的樣品保存、分析測(cè)試和計(jì)量檢定等

        更新時(shí)間:2020-06-30型號(hào):MD30-100
      • MD20-20低溫恒溫循環(huán)槽
        MD20-20低溫恒溫循環(huán)槽

        低溫恒溫循環(huán)槽 MD20-20可作為直接加熱、制冷、輔助加熱、輔助制冷的熱源或冷源,用于石油化工、制藥等化學(xué)反應(yīng)工藝過(guò)程控制,半導(dǎo)體擴(kuò)散爐擴(kuò)散工藝控制,低溫測(cè)量和檢定,樣品保存等浸入式或外循環(huán)應(yīng)用。

        更新時(shí)間:2020-06-30型號(hào):MD20-20
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